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Halbleiterproduktion

Sensoren für die Halbleiterherstellung

Halbleiter-Produktionsprozesse basieren auf modernsten Sensoren, um die steigenden Anforderungen an Qualität und Wirtschaftlichkeit erfüllen zu können. Dabei müssen kleinste Bewegungen erfasst, minimale Toleranzüberschreitungen erkannt und Verfahrwege mit hoher Präzision überwacht werden.

Sensortechnologien von Micro-Epsilon werden von führenden Herstellern der Halbleiterindustrie seit vielen Jahren eingesetzt und überzeugen in Front-End-Prozessen, Back-End-Applikationen und in der Wafer-Fab-Automation.

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Vorteile auf einen Blick

  • Hochpräzise Sensoren - Made in Germany
  • Beratung, Entwicklung & Produktion aus einer Hand
  • Angepasste Sensoren für Serie & OEM
  • Reinraum- und vakuumtaugliche Sensoren bis UHV

Hochauflösende Prüfung und Positionierung von Masken

Bei der Zuführung und Positionierung der Lithografiemaske müssen hochauflösende und langzeitstabile Messungen der Maschinenbewegungen erfolgen. Dafür werden hochauflösende Sensoren eingesetzt, die Überwachung der Maskenausrichtung übernehmen und dabei Präzisionsanforderungen im Nanometerbereich erfüllen. Auch das Glas und der Spalt zum Träger werden mit Sensoren überwacht. Dafür werden konfokal-chromatische Sensoren genutzt, die den Spalt von nur einer Seite erfassen.

Die exakte Ausrichtung und Positionierung von Masken wird mit konfokalen und kapazitiven Sensoren überwacht.
Kapazitive Sensoren und Wirbelstromsensoren liefern nanometergenaue Messergebnisse bei der Waferstage-Positionierung

Hochpräzise Abstandsmessungen in der Lithografie

Die Wafer-Lithografie – insbesondere die EUV-Lithografie – zählt zu den komplexesten industriellen Fertigungsprozessen. Um auf dem Wafer Strukturen im einstelligen Nanometerbereich aufzubringen zu können, müssen die Maschinen- und Optikelemente mit entsprechend hoher Genauigkeit positioniert und ausgerichtet werden. Sensoren von Micro-Epsilon übernehmen eine entscheidende Rolle bei der nanometergenauen Positionierung des Linsensystems und der Waferstage.

Präzise Überwachung im Waferhandling

Wafer müssen im gesamten Herstellungsprozess automatisch entnommen und zum entsprechenden Bearbeitungsschritt zugeführt werden. Dabei ist eine genaue Positionierung ebenso erforderlich wie eine schnelle und zuverlässige Bewegung. Sensoren von Micro-Epsilon stellen eine exakte Ausrichtung und einen sicheren Transport in jedem Prozessschritt sicher. Die Reinraumtauglichkeit der verschleißfreien Sensoren ist dabei eine Grundvoraussetzung für deren Einsatz. Dank der hohen Präzision können Abweichungen schnell und exakt bestimmt werden.

Konfokal-chromatische Sensoren von Micro-Epsilon erkennen Geometrien wie Bumps oder Sägeriefen mit hoher Genauigkeit.

Inline-Qualitätskontrolle von Wafern

Zur Qualitätskontrolle werden Sensoren von Micro-Epsilon in verschiedenen Bereichen eingesetzt, beispielsweise bei der Prüfung der Beschichtungsdicke, bei der Überwachung der Durchbiegung sowie beim Vereinzeln. Neben der hohen Präzision ist auch eine hohe Messrate erforderlich, um schnelle Fertigungsprozesse zu unterstützen. Beispielsweise werden konfokal-chromatische Sensoren zur einseitigen Dickenmessung von Beschichtungen und Höhenprüfung von Bumps eingesetzt. In weiteren Messaufgben überprüfen Weißlicht-Interferometer die Durchbiegung und Dicke von Wafern mit Submikrometergenauigkeit.

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Anhand zahlreicher Anwendungsfälle aus der Praxis veranschaulichen wir, wie Sie mit hochperformanten Sensoren und Messsystemen die Fehlerquote reduzieren und höchste Genauigkeits- und Reinheitsanforderungen erfüllen.

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